氮化硅LPCVD流片(XF-WSBX-******)采購公告
發布時間:2025-05-23 15:59:25
項目信息
項目名稱:氮化硅LPCVD流片
項目編號:XF-WSBX-******
公告開始日期:2025-05-23 15:58:58
公告截止日期:2025-05-30 17:00:00
******大學
付款方式:貨到付款,甲方在到貨驗收后15日內向乙方一次性支付本項目的總額
聯系人:中標后在我參與的項目中查看
聯系電話:中標后在我參與的項目中查看
簽約時間要求:成交后3個工作日內
到貨時間要求:
預算:¥360000.00
收貨地址:
供應商資質要求:符合《政府采購法》第二十二條規定的供應商基本條件
公告說明:
采購清單
采購商品:氮化硅LPCVD流片
采購數量:6
計量單位:張
所屬分類:電子、通信與自動控制技術研究服務
預算:¥60000.00
技術參數及配置要求:1.\tLPCVD Si3N4厚度400 nm,退火后最小CD:200 nm,最小gap:250 nm。CD線寬控制:200±20 nm;Si3N4側壁角度:>86°。
2.\t在400 nm Si3N4上進行刻蝕,刻蝕深度200 nm,套刻精度:70 nm。Slab 厚度:200±15 nm,Si3N4厚度:400±20 nm
3.\tSi3N4上進行SiO2填充,≥250 nm的gap需要保證SiO2填充完整。
4.\tTiN方塊電阻中心和邊緣的均值:13.5ohm/sq。最小CD:2μm 。
5.\tSi3N4單模波導(1μm寬度)傳輸損耗:≈0.2dB/cm(@1550nm) ≈0.2dB/cm(@1310nm)。
6.\t端面耦合(c波段,MFD_2p5μm):TE:loss<2dB/facet,TM:loss<2.1dB/facet。
7.\t1*2MMI(c波段):損耗≈0.2dB ,不平衡度<0.1dB。
8.\tcrossing(c波段):損耗≈0.2dB。
售后服務:電話支持: 5x8小時;服務時限:報修后48小時;商品承諾:原廠全新未拆封正品;